大家好，来看一则(zé)突(tū)发消息。

　　美光(guāng)公司在华销(xiāo)售的(de)产品未通(tōng)过网(wǎng)络(luò)安全审查

　　据网信办消息，日前，网络安(ān)全审查(chá)办公(gōng)室依法对美光公司在华销售产(chǎn)品进行了网络安全(quán)审查。

　　审查发现，美(měi)光(guāng)公(gōng)司(sī)产品存在较(jiào)严重网络(luò)安全问题隐(yǐn)患(huàn)，对我国关键信息(xī)基(jī)础设施供应(yīng)链造(zào)成重(zhòng)大安(ān)全风险(xiǎn)，影响我国国家安全(quán)。为(wèi)此，网络安(ān)全审查办公室依法作出不予通过(guò)网络安全审查的(de)结论。按照《网(wǎng)络(luò)安(ān)全法》等法律法规(guī)，我国(guó)内关(guān)键信息(xī)基础设施的运营者应(yīng)停(tíng)止采购美光公司(sī)产品。

　　此次对美(měi)光(guāng)公(gōng)司产品(pǐn)进行(xíng)网络安全审查，目的(de)是防(fáng)范产品网络安全问题危害(hài)国家关键(jiàn)信息基(jī)础设施安全，是维护(hù)国(guó)家安(ān)全的必要措施。中国坚定推进(jìn)高水平(píng)对外开放，只(zhǐ)要遵守中国法律(lǜ)法规要(yào)求，欢迎各国企(qǐ)业(yè)、各(gè)类平台产乌蒙山在哪里属于哪个省，贵州乌蒙山在哪里品服务进入中国(guó)市场(chǎng)。

　　3月31日，中国(guó)网信网发文(wén)称，为保障关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施供应(yīng)链(liàn)安全，防范产品(pǐn)问题隐患造成(chéng)网络安全风险，维护国家安全，依(yī)据(jù)《中(zhōng)华人民共和国国家安全(quán)法》《中华人民共和国网络安全法》，网络安(ān)全审查(chá)办(bàn)公室按照《网(wǎng)络(luò)安全审查办法(fǎ)》，对美光(guāng)公司（Micron）在华销售的产品实施(shī)网络安全审查(chá)。

　　美光是美国的存储芯片行业龙头，也(yě)是全球存储芯片巨头之(zhī)一，2022年(nián)收入来自中(zhōng)国市场收入从此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电(diàn)子、 铠侠(xiá)、西部数据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约(yuē)为(wèi) 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海力士、美光在(zài)全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江波(bō)龙(lóng)、佰维(wéi)存储等公司披露过美(měi)光等(děng)国际存储厂商(shāng)为公司供(gōng)应商。

　　美光在江波龙采购占(zhàn)比(bǐ)已经(jīng)显著下降，至少已经(jīng)不(bù)是主要大供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年美(měi)光(guāng)位列江波龙第一大存储晶圆供(gōng)应(yīng)商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年(nián)，江波龙(lóng)第一大、第二大和第三大供(gōng)应商采购金额占比(bǐ)分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目(mù)前江波(bō)龙已经(jīng)在(zài)存(cún)储产业(yè)链上下(xià)游(yóu)建立国(guó)内外(wài)广泛合作。2022年年报(bào)显(xiǎn)示，江波龙与三星、美光、西部(bù)数据等主要存储晶圆原厂签署了长期合约，确保(bǎo)存储晶圆供应的稳定性(xìng)，巩固公(gōng)司在下(xià)游市(shì)场的供(gōng)应优势，公司也与(yǔ)国内国产存储(chǔ)晶圆原(yuán)厂武汉长江存储、合肥(féi)长鑫保(bǎo)持(chí)良好的合作。

　　有(yǒu)券商此前就分析，如果美(měi)光在中国区(qū)销售受(shòu)到(dào)限制(zhì)，或将(jiāng)导致下游客(kè)户(hù)转(zhuǎn)而采购(gòu)国外三星、 SK海力士(shì)，国内(nèi)长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对产品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游(yóu)设(shè)备厂或(huò)从中受益。存储器的生(shēng)产(chǎn)已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另(lìng)外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代，2 维到(dào)3维的结(jié)构转变(biàn)使刻蚀和薄膜成为最关键、最大量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经(jīng)过薄(báo)膜沉积工艺步骤，同时刻蚀(shí)目前前沿要(yào)刻到 60：1的深孔(kǒng)，未来(lái)可能会(huì)更深的孔或(huò)乌蒙山在哪里属于哪个省，贵州乌蒙山在哪里者(zhě)沟槽，催生更多设备需求。据东京电子披(pī)露，薄膜沉积(jī)设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本开支(zhī)合计为75％。自长(zhǎng)江存(cún)储被加入(rù)美国限制名单，设备(bèi)国产化进程加速，看好(hǎo)拓荆(jīng)科技（薄膜沉积）等(děng)相关公(gōng)司份额(é)提升(shēng)，以及存储业务占比(bǐ)较高的华海清科（CMP）、盛美上(shàng)海（清洗）等收入增长。

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