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西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?

西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里? 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

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  金融界4月24日消息,国家知识产权局局长申长雨(yǔ)在(zài)新闻发(fā)布会上表示,将统筹推进各类知识产权(quán)法律(lǜ)法(fǎ)规和制(zhì)度规则的(de)制(zhì)修(xiū)订工作。其中,修改完(wán)善(shàn)集成电路(lù)布图(tú)设计保护条例,适应大规模集成电路发展(zhǎn)需要,助力(lì)芯片产业做大(dà)做强,服务数字经(jīng)济更(gèng)好发展。

  加强大(dà)数据、人(rén)工智能、基(jī)因(yīn)技术(shù)等新领(lǐng)域新业态(tài)知识产(chǎn)权规则(zé)研(yán)究(jiū),助(zhù)力相(xiāng)关(guān)领(lǐng)域创新发展。同时,积(jī)极参与(yǔ)知识产权(quán)国(guó)际规则制定(dìng),更(gèng)好对(duì)接高标准(zhǔn)国际经贸规(guī)则,助力高水平对外开(kāi)放。

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