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2l是多少毫升 2l是多少升 半导体突发!中国出手:停止采购!

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  美光公司在(zài)华销售的(de)产品(pǐn)未通过网络安全审查

  据(jù)网信办消息,日前,网络安全审查办(bàn)公(gōng)室依法对美光公司在华销售(shòu)产品进行了网(wǎng)络安全审查。

  审查发现(xiàn),美光(guāng)公(gōng)司产品存在较严重网络安全问题隐患(huàn),对我国关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施供应链造成重大安全(quán)风险,影响我(wǒ)国国家安全。为此,网络安全审(shěn)查(chá)办公室依(yī)法作(zuò)出(chū)不予(yǔ)通(tōng)过网络(luò)安全审查的结(jié)论。按照《网(wǎng)络安(ān)全法》等法律法规,我国内关键信(xìn)息基础设施的运(yùn)营(yíng)者应停(tíng)止采购(gòu)美(měi)光公司产品。

  此次对美光公司产品进行网(wǎng)络安全审查,目的是防范产品网(wǎng)络安全(quán)问(wèn)题危害国(guó)家关键信息(xī)基(jī)础设(shè)施安全,是维护国(guó)家安(ān)全的必要措施。中国(guó)坚定(dìng)推(tuī)进高水平(píng)对外(wài)开放,只(zhǐ)要遵守中国法(fǎ)律法规要求,欢(huān)迎各国(guó)企业(yè)、各类平台产品服务进(jìn)入中(zhōng)国(guó)市场(chǎng)。

  半导体突发!中国出手:停止采购(gòu)!

  3月31日,中国(guó)网信网发文称,为(wèi)保障关(guān)键信息基(jī)础设施供应链安全,防范产(chǎn)品问题隐(yǐn)患造成网络(luò)安全风险,维护国家安(ān)全,依据《中华人民(mín)共和国国家安全法》《中(zhōng)华(huá)人民共和国网(wǎng)络(luò)安全法》,网络安(ān)全审(shěn)查办(bàn)公室按(àn)照《网络(luò)安(ān)全审查办法》,对美光公司(Micron)在(zài)华销售的产品实施(shī)网络安全审查。

  半导体(tǐ)突发!中(zhōng)国出手:停止采购!

  美(měi)光(guāng)是美国的存储芯(xīn)片行业龙头(tóu),也是全(quán)球存(cún)储芯(xīn)片巨头之一,2022年收入来自中国市场收入(rù)从此前高(gāo)峰(fēng)57%降至(zhì)2022年约(yuē)11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三(sān)星(xīng)电子、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力(lì)士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市(shì)场(chǎng)份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力(lì)士(shì)、美光在全球 DRAM (内存)市场份额(é)约为 94.35%。

  A股上(shàng)市公司中,江波龙、佰(bǎi)维存储等公司披(pī)露(lù)过美光等(d2l是多少毫升 2l是多少升ěng)国际存储厂商(shāng)为公司供应商。

  美光在江波龙采购占比(bǐ)已经(jīng)显(xiǎn)著下降,至少已经不是主要大(dà)供应(yīng)商。

  公告显示, 2021年(nián)美光位(wèi)列江波龙第(dì)一大存储晶圆供应商(shāng),采购(gòu)约(yuē)31亿(yì)元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大和第三(sān)大(dà)供应(yīng)商采购金额(é)占(zhàn)比分别(bié)是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在存(cún)储产(chǎn)业(yè)链(liàn)上(shàng)下游建立国内(n2l是多少毫升 2l是多少升èi)外广泛合作。2022年年报显(xiǎn)示(shì),江(jiāng)波龙与(yǔ)三星、美光、西部数据等主要存储(chǔ)晶圆(yuán)原厂签署了长期合约,确保存(cún)储晶圆供应的稳定性,巩固公司在下游(yóu)市场的供应(yīng)优势,公(gōng)司也与国内国(guó)产存储晶圆原厂武汉(hàn)长江存储、合(hé)肥长鑫保持良好的合作。

  有(yǒu)券(quàn)商此前就分(fēn)析,如果美光在(zài)中国区销售受到限制,或将(jiāng)导致下游客户(hù)转而(ér)采购国(guó)外三(sān)星、 SK海力士,国内长(zhǎng)江(jiāng)存储、长鑫(xīn)存储(chǔ)等(děng)竞对产(chǎn)品

  分析(xī)称,长(zhǎng)存、长鑫的上游设备厂或从中受(shòu)益。存储器的生产(chǎn)已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在(zài)已(yǐ)经进(jìn)入3D NAND时代,2 维到3维(wéi)的结构转变使刻蚀和薄膜成为(wèi)最关(guān)键、最大(dà)量的加(jiā)工设备。3D NAND每层(céng)均需(xū)要经过薄膜沉积工(gōng)艺步骤(zhòu),同时(shí)刻蚀目(mù)前前沿要(yào)刻到 60:1的深孔(kǒng),未来(lái)可(kě)能会(huì)更深的孔或者沟槽,催生更多设(shè)备(bèi)需求。据东京电子(zi)披(pī)露,薄膜(mó)沉积(jī)设(shè)备及刻(kè)蚀占3D NAND产线资本(běn)开支合计为75%。自长江(jiāng)存储被加入美国限制名(míng)单(dān),设备国产化进(jìn)程加速,看(kàn)好拓荆科技(薄膜(mó)沉积)等相关公司(sī)份额提升,以及存储业务占(zhàn)比较高(gāo)的华海清科(kē)(CMP)、盛美(měi)上海(清洗)等收入增(zēng)长。

 

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