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凸面镜和凹面镜成像的特点是什么呢,凸面镜与凹面镜成像特点 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日消息,国家知识产权(quán)局局长申长雨在新闻发(fā)布会上(shàng)表(biǎo)示,将统筹推进(jìn)各(gè)类知(zhī)识产(chǎn)权法律法规和制度规(guī)则的制修订工作。其中,修(xiū)改完善集成电路布图(tú)设计(jì)保护(hù)条例,适应大规模集成电凸面镜和凹面镜成像的特点是什么呢,凸面镜与凹面镜成像特点路发展需要,助力(lì)芯片产(chǎn)业(yè)做(zuò)大做强,服务(wù)数字经济(jì)更好发展。

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