金(jīn)融界4月24日消(xiāo)息(xī)，国家知识产权局局长申长雨在新(xīn)闻发布会上表示，将(jiāng)统筹(chóu)推进各类知识产(chǎn)权法(fǎ)律法(fǎ)规和制(zhì)度规则的制修订工(gōng)作。其(qí)中，修(xiū)改完(wán)善集成电路(lù)布图设计保护条例，适应大规模集成电路发(fā)展需(xū)要，助二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式，二氧化硫与溴水反应方程式双线桥力芯片(piàn)产(chǎn)业(yè)做(zuò)大做强，服(fú)务数字经济更好发展。

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