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异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日消息(xī),国家(jiā)知识产(chǎn)权局局长(zhǎng)申(shēn)长(zhǎng)雨(yǔ)在新闻发布会上表示,将(jiāng)统筹推进各(gè)类知识产权法律法规和制度规则的(de)制(zhì)修订工作。其中(zh异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写ōng),修改完善集(jí)成电(diàn)路布图设计(jì)保(bǎo)护条例,适应大规模集成(chéng)电路发展需要,助力(lì)芯片产(chǎn)业做大做强,服务数字经济更好发展。

  加强(qiáng)大(dà)数据、人工(gōng)智能、基因技术等新领域新业态知识(shí)产权(quán)规则研(yán)究,助力相关领域创新发展(zhǎn)。同(tóng)时(shí),积极参与知识产权(quán)国际(jì)规(guī)则制(zhì)定,更(gèng)好对接高标准国际经贸规(guī)则,助(zhù)力高水平对外开放。

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