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g跟ml一样吗洗发水,g和ml有区别吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看(kàn)一则突发消息。

  美光(guāng)公(gōng)司在华销(xiāo)售的产品(pǐn)未通过网络安(ān)全(quán)审查

  据(jù)网信办消息,日前(qián),网络安全审查办(bàn)公室依法对美光公司在华(huá)销售(shòu)产品(pǐn)进行了网络安全审查(chá)。

  审查发现(xiàn),美光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)存在较(jiào)严(yán)重网络(luò)安(ān)全问(wèn)题(tí)隐患(huàn),对我国关键信息(xī)基础设施供应(yīng)链造成重大安(ān)全风险,影(yǐng)响我(wǒ)国(guó)国家(jiā)安全。为此,网络安全审查办公室依法作出不予通(tōng)过网络安(ān)全审查的结论(lùn)。按照《网络安(ān)全法》等法律法规(guī),我(wǒ)国内(nèi)关键信息基础设施的运营(yíng)者应停止(zhǐ)采购美光公司(sī)产(chǎn)品。

  此次对美光公司产品进行(xíng)网络安全审查,目的是防范产品网络安(ān)全问题危(wēi)害国家关键信息基础设(shè)施安(ān)全,是维护(hù)国(guó)家安全的必要措施。中国坚定推(tuī)进高(gāo)水平对外开放,只要遵守中(zhōng)国法(fǎ)律法规要求,欢迎各国企业、各类平台产品服务进入中国市场。

  半导体突发!中国出手(shǒu):停止采购!

  3月31日,中国网信网发文称,为保(bǎo)障关键信息(xī)基(jī)础(chǔ)设施供应链安(ān)全,防范产品(pǐn)问题隐患造成网络安全风险(xiǎn),维护国家安全,依(yī)据(jù)《中华人民共和国国家安(ān)全法》《中华人民(mín)共和(hé)国网络安(ān)全法》,网络(luò)安全审查办(bàn)公室(shì)按照《网(wǎng)络安全审查办法》,对美(měi)光公司(Micron)在华销售的产品实(shí)施网络安(ān)全审查。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止采(cǎi)购!

  美光是美国(guó)的存储芯(xīn)片行业(yè)龙头,也是全球存储芯片(piàn)巨头之一,2022年收入(rù)来(lái)自(zì)中国市场收入(rù)从此(cǐ)前(qián)高(gāo)峰57%降至2022年约11%。根(gēn)据市场(chǎng)咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三(sān)星(xīng)电子、 铠侠、西(xī)部数(shù)据、SK 海(hǎi)力(lì)士、美(měi)光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash (闪存)市场份额约(yuē)为(wèi) 96.76%,三(sān)星电(diàn)子(zi)、 SK 海力士、美(měi)光在全球 DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司(sī)中,江波龙、佰维存(cún)储等公司披露过美光(guāng)等(děng)国(guó)际存储(chǔ)厂商为公司(sī)供应(yīng)商。

  美(měi)光(guāng)在江波龙采购占比已经显著下降,至少已(yǐ)经不是主要大(dà)供应商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美(měi)光(guāng)位列江波龙第一大(dà)存储(chǔ)晶圆供应商,采购约31亿元,占(zhàn)比33.52%;2022年,江波龙第一大、第(dì)二大和第三大供应商采购金(jīn)额占比分(fēn)别是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目(mù)前江波龙(lóng)已经在存储产业链上下游建立国内(nèi)外(wài)广泛合作。2022年g跟ml一样吗洗发水,g和ml有区别吗年报(bào)显示,江(jiāng)波龙与三星、美光g跟ml一样吗洗发水,g和ml有区别吗(guāng)、西部数据等主要存储晶圆原厂签署了长期合约,确保存储晶圆(yuán)供应的稳(wěn)定性,巩固公(gōng)司在(zài)下游(yóu)市场的供应优势,公司也与国内国产存储(chǔ)晶圆原厂(chǎng)武汉长江存储(chǔ)、合肥长鑫保持良好的合作。

  有券商(shāng)此前就分析,如(rú)果美光在(zài)中国区销(xiāo)售受到限制,或(huò)将导致下(xià)游客户(hù)转而采购国外三星(xīng)、 SK海力士,国(guó)内长江存(cún)储、长鑫(xīn)存(cún)储等竞对产品

  分析称,长存、长(zhǎng)鑫的(de)上游设备(bèi)厂或从中受益。存储器(qì)的生(shēng)产(chǎn)已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在(zài)已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结(jié)构转变使刻蚀和薄膜成为最关键、最(zuì)大量(liàng)的加(jiā)工(gōng)设(shè)备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过薄(báo)膜沉积工艺步(bù)骤,同时刻蚀目(mù)前(qián)前沿要刻(kè)到 60:1的深孔,未来可能(néng)会更深的孔或者(zhě)沟槽(cáo),催生更多设备需(xū)求。据东京电(diàn)子(zi)披(pī)露,薄(báo)膜(mó)沉积设备及刻(kè)蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合(hé)计为75%。自长(zhǎng)江存(cún)储被加入美(měi)国(guó)限(xiàn)制名单,设(shè)备(bèi)国产化(huà)进程(chéng)加速,看好拓(tuò)荆科技(薄(báo)膜沉积)等相关公司份额提升,以(yǐ)及存储业务占(zhàn)比较高(gāo)的华海清科(CMP)、盛美(měi)上海(清洗)等收入增长。

 

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