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　　美光公司(sī)在华销(xiāo)售(shòu)的产(chǎn)品未通过网络安全审(shěn)查

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网络安全审查(chá)办公室(shì)依法对美(měi)光公(gōng)司在华(huá)销售产品进行了网络(luò)安全审(shěn)查(chá)。

　　审查(chá)发现，美光公司产(chǎn)品存在较严重(zhòng)网络安全(quán)问题隐患，对我(wǒ)国关键信息基础设(shè)施(shī)供应链造(zào)成重大安全风险(xiǎn)，影响我国国家安全。为此，网络安全(quán)审查办公室依法(fǎ)作出不予通过网络安全(quán)审查的结论。按照《网络安(ān)全法》等(děng)法律法规，我国内关键(jiàn)信息基础设(shè)施的(de)运营者(zhě)应(yīng)停止采(cǎi)购美光公司产品。

　　此次对美光公司产品进行网络安全审查(chá)，目的是防(fáng)范产(chǎn)品网(wǎng)络安(ān)全问题危害(hài)国家关键信息基础设施安全，是(shì)维护(hù)国家安全(quán)的必(bì)要措施。中国坚定推进(jìn)高水平对外(wài)开放，只要遵(zūn)守中国法律(lǜ)法(fǎ)规要求，欢迎各国(guó)企(qǐ)业、各类平台(tái)产品服务进入(rù)中国市场。

　　3月(yuè)31日，中国网(wǎng)信网发文称，为保(bǎo)障关键信(xìn)息基础(chǔ)设施(shī)供应链安(ān)全，防范产品问题隐患造成网络安全风险(xiǎn)，维护(hù)国家安全，依(yī)据《中华人民共和国(guó)国家安全法》《中华(huá)人民共和国(guó)网络安全法》，网络安全审(shěn)查(chá)办(bàn)公室20mm等于多少厘米 20mm是多大按照《网络安全审查办法》，对美光(guāng)公司（Micron）在(zài)华销(xiāo)售的产品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存储芯片(piàn)行业(yè)龙头，也是全球(qiú)存储(chǔ)芯片巨头之一，2022年收入(rù)来自中国(guó)市场(chǎng)收入从此前高峰57％降至2022年约11％。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年(nián)三星电子(zi)、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份额约为 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海力士(shì)、美光(guāng)在(zài)全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市(shì)公司中(zhōng)，江波龙(lóng)、佰维存(cún)储等公司披露过(guò)美光等(děng)国际存储(chǔ)厂(chǎng)商为(wèi)公司供应商。

　　美光在江波龙采购占比(bǐ)已经显著(zhù)下降，至少已经不是(shì)主要大(dà)供(gōng)应商。

　　公告显示， 2021年美光20mm等于多少厘米 20mm是多大位列江波龙第一(yī)大存储晶圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙(lóng)第一(yī)大、第二大(dà)和(hé)第三(sān)大(dà)供应(yīng)商采(cǎi)购(gòu)金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙(lóng)已经(jīng)在(zài)存储产业链上下游建立国(guó)内外广泛(fàn)合作。2022年年报显示，江(jiāng)波(bō)龙与三星、美光、西部数据(jù)等主要存储晶(jīng)圆(yuán)原厂签署了长期(qī)合约，确保存储晶圆供应的稳定(dìng)性(xìng)，巩固公司在(zài)下(xià)游市场的(de)供应优(yōu)势，公司(sī)也(yě)与国内国(guó)产存储晶圆原厂武汉(hàn)长江存(cún)储、合肥长(zhǎng)鑫(xīn)保持良好的合作(zuò)。

　　有券商此前就分析，如果美(měi)光在中(zhōng)国区销售受到限制，或将导(dǎo)致下游(yóu)客户转而采购国外三星、 SK海(hǎi)力士(shì)，国(guó)内(nèi)长江存储(chǔ)、长鑫存储等(děng)竞对产品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫(xīn)的上游设备厂或从中受益。存(cún)储器(qì)的生(shēng)产已(yǐ)经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经(jīng)进入3D NAND时代，2 维(wé20mm等于多少厘米 20mm是多大i)到3维的结构转变使(shǐ)刻(kè)蚀和薄膜(mó)成为最关键、最大(dà)量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经(jīng)过薄膜沉积工艺步骤，同时刻蚀目(mù)前(qián)前沿要刻到 60：1的深孔，未来可能(néng)会更深的孔或者沟(gōu)槽，催生更多设备需求。据(jù)东京电(diàn)子(zi)披露，薄膜(mó)沉积设备(bèi)及(jí)刻蚀(shí)占3D NAND产线(xiàn)资本开支合(hé)计为75％。自长江存储被加入美国限(xiàn)制名单，设备国产化进(jìn)程加速，看好拓(tuò)荆(jīng)科技（薄膜沉积）等(děng)相关公(gōng)司份额提(tí)升，以及(jí)存储业(yè)务占比较高的华海清科（CMP）、盛(shèng)美上海（清(qīng)洗）等收(shōu)入增长。

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