大家好，来看一则突发消息(xī)。

　　美光(guāng)公司在(zài)华销(xiāo)售的(de)产(chǎn)品未通过(guò)网络安全审查(chá)

　　据网信(xìn)办消息，日前，网络安(ān)全审查办公(gōng)室(shì)依法对美光公司在华销售产品进行了网络安全审查。

　　审查发现，美光公司产品存在(zài)较严重网络安全问题(tí)隐患，对我国关键信息(xī)基础(chǔ)设施供(gōng)应链造成重大(dà)安全风险，影响我国国家安全。为此，网(wǎng)络(luò)安全(quán)审查(chá)办(bàn)公室依(yī)法作出不予通过网络安全审查的结论。按(àn)照(zhào)《网(wǎng)络(luò)安(ān)全法(fǎ)》等(děng)法(fǎ)律法规，我国内关键信息基础设施的运营者应停止采购美光公司产品。

　　此次对美光公司产品进行网络安全审查(chá)，目的是防范产品网(wǎng)络安全问题危害(hài)国家关键信息基础(chǔ)设施安(ān)全，是维护国家(jiā)安全的必(bì)要措施。中(zhōng)国(guó)坚定推进高水平对(duì)外开放，只要遵守中国法律法(fǎ)规要求，欢迎各国企业、各类平台产品服(fú)务进入中国市(shì)场。

　　3月31日，中国网信(xìn)网发文称，为保障关键(jiàn)信息基础设施供(gōng)应(yīng)链安全，防范产品问题隐(yǐn)患(huàn)造(zào)成(chéng)网络(luò)安全(quán)风险，维护国家安全(quán)，依据(jù)《中(zhōng)华(huá)人民共(gòng)和国国家安全(quán)法》《中华人(rén)民共和国网络安全法》，网(wǎng)络安全审查办公室按照《网络(luò)安全审查办(bàn)法》，对美(měi)光(guāng)公(gōng)司（Micron）在华销售的产(chǎn)品实施网络(luò)安(ān)全审查。

　　美光是美国的(de)存储(chǔ)芯片行(xíng)业龙头，也是(shì)全球存(cún)储(chǔ)芯片(piàn)巨头(tóu)之一，2022年(nián)收入来自中国市场收入从此(cǐ)前高峰57％降至2022年(nián)约11％。根据市场咨(zī)询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星(xīng)电子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份(fèn)额约(yuē)为(wèi) 96.76％，三星电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内存）市场份额(é)约为 94.35％。

　　A股上市公(gōng)司(sī)中，江波龙(lóng)、佰维存储等公司披(pī)露过美(měi)光(guāng)等国(guó)际存储厂商为公司供(gōng)应商(shāng)。

　　美光在江波龙采(cǎi)购(gòu)占比已经显著下降，至少已(yǐ)经不是主(zhǔ)要大供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年(nián)美光(guāng)位列江波龙(lóng)第一大存(cún)储晶(jīng)圆供(gōng)应(yīng)商，采(cǎi)购约31亿元，占比(bǐ)33.52％；2022年，江波龙第一(yī)大、第二大和第三大供应商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波龙(lóng)已奥巴马与中国关系好嘛，奥巴马在任时与中国的关系好吗经在(zài)存储产业(yè)链上下(xià)游建立国内外(wài)广泛合作(zuò)。2022年年报显示，江波龙与三星(xīng)、美光、西(xī)部数(shù)据等主要存(cún)储晶圆(yuán)原厂签署了长期合约，确保存储晶(jīng)圆供应的稳(wěn)定性，巩固公司在下游市场的供应优(yōu)势，公(gōng)司(sī)也与国内国产存(cún)储晶圆原(yuán)厂武汉长江(jiāng)存储(chǔ)、合肥(féi)长鑫保持良好的合作。

　　有券(quàn)商此(cǐ)前就分(fēn)析，如果(guǒ)美光在中国区销售受到(dào)限(xiàn)制，或将导(dǎo)致下游(yóu)客户转而采购国(guó)外三星、 SK海力士，国内长江存(cún)储、长鑫(xīn)存储等竞对产品

　　分析称，长存、长(zhǎng)鑫的(de)上(shàng)游设备厂(chǎng)或从(cóng)中受(shòu)益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现在(zài)已经进(jìn)入3D NAND时代，2 维(wéi)到3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为最关(guān)键、最大量的加工设备。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要经过薄膜沉积工艺步骤，同(tóng)时刻蚀目前前沿要刻到 60：1的深孔，未来可能会更深的孔或者沟槽，催(cuī)生更多设备需(xū)求。据东京电子披露，薄膜沉积(jī)设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长江(jiāng)存储被加入美(měi)国限制名单(dān)，设备(bèi)国产化进(jìn)程(chéng)加速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关公司份(fèn)额(é)提升，以及存储业务占比较高的华海清科（CMP）、盛美上(shàng)海(h奥巴马与中国关系好嘛，奥巴马在任时与中国的关系好吗ǎi)（清洗(xǐ)）等收(shōu)入增长。

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