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　　美(měi)光公司(sī)在华销(xiāo)售的产品未通过网络安全审查

　　据网信办消息(xī)，日前，网络安全(quán)审查(chá)办公室依法对美光公司在华销售产(chǎn)品进行了(le)网络安全审查。

　　审查发现(xiàn)，美光公司产品存(cún)在(zài)较(jiào)严重网络安全问(wèn)题隐患，对我国关键信(xìn)息基础(chǔ)设施供(gōng)应链(liàn)造成重大安全风险，影响(xiǎng)我国国家安全。为(wèi)此，网络安全审查办公室依法作(zuò)出不予通过网络安全审查(chá)的(de)结论。按照《网(wǎng)络安全法》等法(fǎ)律法(fǎ)规(guī)，我国(guó)内(nèi)关(guān)键信息基础设(shè)施的运营者应停止采购美光(guāng)公司产(chǎn)品。

　　此次(cì)对美光公司产(chǎn)品进行(xíng)网络(luò)安全(quán)审查，目的是防范(fàn)产品(pǐn)网络(luò)安全问题危害国家关键(jiàn)信息(xī)基(jī)础设施(shī)安全，是维(wéi)护国家安全的必要措(cuò)施(shī)。中(zhōng)国坚(jiān)定推进(jìn)高水平对外(wài)开放，只要遵守中(zhōng)国法律法规要求，欢(huān)迎各(gè)国(guó)企业、各类平台产品服务进入中国市场。

　　3月31日，中国(guó)网信(xìn)网(wǎng)发(fā)文称，为保障(zhàng)关键信息(xī)基础设(shè)施供应链安全(quán)，防范产品问题(tí)隐(yǐn)患造成网络安(ān)全风(fēng)险(xiǎn)，维护国(guó)家安全，依据(jù)《中华人民共和国(guó)国家安全法》《中(zhōng)华(huá)人民(mín)共和国网络(luò)安全(quán)法(fǎ)》，网络安(ān)全(quán)审查(chá)办公室按照《网络安(ān)全审查办法(fǎ)》，对(duì)美光公司(sī)（Micron）在雨水淋过的衣服晒干还能穿吗，雨水淋过的衣服晒干还能穿吗华销(xiāo)售(shòu)的产品实施网(wǎng)络安全审查。

　　美光是美国的存储(chǔ)芯片(piàn)行业龙(lóng)头，也是全球存储芯片巨(jù)头之一，2022年收入来自中国市场收入从此前(qián)高峰57％降至2022年约11％。根据(jù)市场(chǎng)咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子(zi)、 铠侠(xiá)、西部数据(jù)、SK 海(hǎi)力(lì)士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份(fèn)额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光(guāng)在全(quán)球 DRAM （内存(cún)）市场(chǎng)份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股(gǔ)上市公司中，江波龙(lóng)、佰维存储等公司披(pī)露(lù)过美光等国际存储厂商(shāng)为公司供(gōng)应商。

　　美光在江波(bō)龙采(cǎi)购占比已(yǐ)经(jīng)显著(zhù)下降，至(zhì)少(shǎo)已经不是主要大供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年(nián)美光位(wèi)列江(jiāng)波(bō)龙第一(yī)大存储(chǔ)晶圆供应商，采购约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三(sān)大供应商(shāng)采购(gòu)金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已经(jīng)在存储(chǔ)产业链上下游建立国内(nèi)外广泛合(hé)作(zuò)。2022年年报显示，江波龙与三星、美光、西部数据等主(zhǔ)要存储晶(jīng)圆原(yuán)厂签署了长期合约，确保存储晶(jīng)圆供(gōng)应的(de)稳(wěn)定性，巩固公司在下游市场的供应优势，公(gōng)司也与(yǔ)国内国产存储晶(jīng)圆原(yuán)厂(chǎng)武汉长江存储、合肥(féi)长(zhǎng)鑫保持(chí)良(liáng)好的合作。

　　有券商此前就分(fēn)析(xī)，如果美(měi)光在中国(guó)区销售(shòu)受到(dào)限制，或将导致下游客户转而采购(gòu)国外三星(xīng)、 SK海力士，国内长江(jiāng)存储(chǔ)、长鑫存储等竞对产品(pǐn)

　　分析称，长存、长鑫的上游设备厂或从中受益(yì)。存储器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另(lìng)外(wài)NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时代，2 维(wéi)到3维的结构转变(biàn)使(shǐ)刻(kè)蚀和(hé)薄膜成为最关键、最大量的(de)加工设(shè)备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工(gōng)艺步骤，同时刻蚀目前前(qián)沿要刻到 60：1的深孔(kǒng)，未来可能会更深的孔或者(zhě)沟槽(cáo)，催(cuī)生(shēng)更多设备需求。据东京电子披(pī)露(lù)，薄(báo)膜沉积(jī)设(shè)备及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线(xiàn)资本(běn)开支合计为75％。自长(zhǎ雨水淋过的衣服晒干还能穿吗，雨水淋过的衣服晒干还能穿吗ng)江(jiāng)存(cún)储被加入美国(guó)限(xiàn)制名单，设备国产化(huà)进程(chéng)加(jiā)速，看好(hǎo)拓荆(jīng)科技（薄(báo)膜沉积）等相关(guān)公司份额(é)提升，以及存储业(yè)务占比(bǐ)较高(gāo)的华(huá)海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等(děng)收入增长(zhǎng)。

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